Na litografia , uma máscara de deslocamento de fase ou PSM ( Phase Shift Mask em inglês) é uma máscara fotográfica que modula a fase da luz incidente de modo a produzir interferência , o que permite oferecer melhor resolução do que uma máscara binária . Existem máscaras de deslocamento de fase atenuado (PSM atenuado), alternadas (PSM alternado) e sem cromo (PSM sem cromo ).